随着我国对科技的重视以及研究，我们有了越来越多属于我们自己的高科技产品，紫外超分辨光刻机就是其中之一。

紫光超分辨光刻机是全球首台利用紫外线光源实现22纳米工艺制程的光刻机，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。头发丝儿的直径约80微米，头发直径的3600之一就是22纳米，换句话说，该光刻机能够在头发丝儿上进行各种复杂的工艺设计。而365纳米的光源，打破了传统的衍射极限，相当于你用一把粗10厘米的美工刀，却刻出一条1纳米的线。

目前，全球仅有四家光刻机设备厂商能够设计出高端的光刻机，分别是荷兰的ASML、日本的Nikon和Canon以及中国的上海微电子装备公司。而紫外超分辨光刻机是由中国科学院光电技术研究所设计的，虽然与占据全球百分之九十市场份额的荷兰ASML相比还有很大的差距，但是他们仍在努力。

当然，在研发过程中也不是一帆风顺的。在2002年，我国受到了国外的封锁，贸易壁垒、技术封锁、价格垄断等问题摆在上海微电子公司的面前，所以当时只能设计出90纳米工艺制品的芯片。这款芯片在功耗控制以及性能上与其他国家的芯片相比都有一定的差距，导致最后推出商用都没有做到。值得一提的是，随着国家对芯片的重视，我们在自主制造光刻机这方面已经越走越远。

众所周知，芯片制造的核心装备时光刻机，没有光刻机就不能制造出发展信贷信息技术和人工智能的芯片。所以国产光刻机的出现，会给我们带来很多好处。一是每年为我国节省至少三千亿美元外汇。二是它能保障我国的国防安全，更能让我国的科技水平领先于世界。

中国的不断强大，惹得了其他国家的眼红，对我们在经济、科技等领域进行封锁。我们在芯片领域一直受制于人，在光刻机领域更是如此，有一天我国的紫外超分辨光刻机也能达到7纳米，甚至更小纳米的工艺制程，让我们拭目以待。