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光刻机的核心部件光刻胶，这家中国企业有望打破垄断
来源: | 作者:proac3c72 | 发布时间: 2020-05-27 | 2189 次浏览 | 分享到:

自进入5月份以来，国内半导体市场便尤为动荡不安。在台积电曝出赴美建厂的消息以来，国人对于中芯国际是否拿到荷兰ASML的高端光刻机的消息也十分关注。不过实际上，对于半导体代工而言，除了光刻机，光刻机的核心部件——光刻胶，重要性同样非比寻常。


但是正如中国光刻机被ASML卡脖子一样，中国的高端光刻胶同样被日美等企业卡住了脖子，尤其是在高端半导体光刻胶领域，中国更是与全球先进水平有近40年的差距。不过庆幸的是，一家名为“南大光电”的这家中国企业，有望打破其技术垄断！


据公开资料显示：目前全球光刻胶主要被日本寡头垄断，以JSR、东京应化等为首的四家日本公司，在世界光刻胶领域市占有率更是高达72%。再加上排名第五的美国公司，仅是日美两个国家，在全球光刻胶领域的占比便高达85%，中国大陆所占的市场份额不足10%。


更令人无奈的是，在高端半导体光刻胶领域，中国几乎是空白。与之相对的是日本厂商，在对技术含量要求最高的ArF光刻胶领域，市占有率高达93%。而鉴于这种193nm的ArF光刻胶可用于28nm到7nm工艺的光刻机制造，因此，其对于EUV光刻机的重要性已是不言而喻。


为寻求高端光刻胶领域的技术突破，目前国内包括北京科华、南大光电以及上海新阳都等在内的多家公司，都进入了攻关阶段。其中，南大光电更是在5月22日于互动平台上透露，公司的ArF光刻胶目前正在按计划进行客户测试。这无疑意味着，国内的ArF光刻胶技术已经取得了重大突破，开始从研发阶段走向生产，有望打破日美企业的垄断。


值得一提的是，早在2017年，南大光电公司便已经开始研发“193nm光刻胶项目”，而且还获得了国家“02专项”的相关项目立项。彼时，南大光电便宣称，计划用3年的时间实现ArF光刻胶产品的建设、投产和销售，最终达到年产25吨193nm ArF光刻胶产品的生产规模。


如今南大光电方面的消息也印证了，其原本定下的目标已基本实现，只需要在未来的7个月内实现光刻胶的销售，南大光电3年来的努力便没有白费。不过鉴于目前国内并没有EUV工艺量产，所以EUV光刻胶实际上也并不是急需，但若是能在世界高端光刻胶领域分一杯羹，也是国产技术的一大重要突破。
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